硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。

这两个概念主要出半导体加工过程中，初的半导体基片（衬底片）抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末，一种新的抛光技术——化学机械抛光技术（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了旧的方法。

蜡乳液是天然蜡与合成蜡等材料在乳化剂的作用分散于水中的一种多相体系的乳液，制备方法主要是相转化的乳化法。 低熔点的蜡可赋予皮革表面蜡感，适度封闭粒面伤残，还可改善皮堆积性，防止熨烫或压花时粘板。熔点较高的蜡乳液，则能赋予高光泽，可抛光，透明度，能用于苯胺涂饰。

蜡乳液可与加脂剂复配 在加脂剂中复配少量的乳化蜡改善和提高加脂剂的效果，通过试验证明，向皮革加脂剂中复配1% ～ 5%的蜡乳液，可提高加脂剂的填充性能，提高加脂剂在皮纤维中的渗透性能，增加皮革的防水性能，使皮革手感滑爽、柔软、丰满。